秋山研究室

• 半導体レーザー顕微分光システム
• 半導体レーザー時間分解分光システム
• 絶対光量計測システム
• III-V族半導体MBE装置

板谷研究室

• 高強度赤外レーザーシステム
• 高強度中赤外レーザーシステム
• 近赤外フェムト秒分光装置

井上研究室

• レーザー過渡吸収測定（フラッシュフォトリシス）システム（サブマイクロ秒以上）
• 定常レーザー照射下吸収スペクトル測定系（QEProサイエンティフィックグレード分光器）
• 低温紫外可視吸光光度計（T>77K)
• 時間分解共鳴Raman分光システム
• 分光蛍光光度計（近赤外測定用高感度モデル, FP-8650）
• タンパク質アフィニティー・ゲル濾過クロマトグラフィーシステム(AKTA go, start)
• 光励起パッチクランプ（電機生理）計測システム
• 共焦点レーザー顕微鏡
• カルシウムイメージング顕微鏡
• 円二色性分散計　J-1500

岡﨑研究室

• 極低温超高分解能レーザーARPES
• 高次高調波レーザー時間分解ARPES
• 超高分解能レーザー光電子顕微鏡(PEEM)
• フェムト秒パルスレーザー+OPA (Astrella 1kHz + TOPAS-PRIME-HE)

岡本研究室

• 水熱合成装置（750℃、250MPa）

長田研究室

• 磁場中電気伝導測定装置（13T, 0.5K）

小林研究室

• 高出力フェムト秒ファイバーレーザーシステム
• 光周波数コム　
• 各種融着装置　
• 紫外レーザー装置　
• 白色干渉顕微鏡　
• レーザー顕微鏡　
• 中赤外超高分解分光器　
• 電子顕微鏡　

近藤研究室

• 汎用型高分解能レーザーARPES

橋坂研究室

• 希釈冷凍機
• 1T回転マグネット付き冷凍機

長谷川研究室

• 走査トンネル顕微鏡（超高真空仕様、室温、オミクロン社製）
• 低温磁場中走査トンネル顕微鏡（超高真空、到達温度5K、磁場・面直2T、面内1T、ユニソク製）
• 走査トンネル顕微鏡（超高真空、到達温度0.4K、磁場・面直7T、ユニソク製）

益田研究室

• PPMS　
• 高エネルギーX線透過ラウエ装置

松田巌研究室

• レーザー時間分解２次元ARPES

松永研究室

• テラヘルツ時間領域分光装置
• 高感度テラヘルツ偏光回転測定装置
• UV-VIS-NIR-MIR超高速時間分解システム
• 高強度テラヘルツ光源・時間分解測定システム

三輪研究室

• 原子間力顕微鏡 (日立ハイテク L-traceII)
• 高周波プローブ装置 (室温, 1.5T, 磁場角度任意, 0-30GHz)
• フェムト秒パルスレーザー装置 (波長1030nmもしくは515nm)
• 成膜装置 (電子線蒸着13元、抵抗加熱蒸着8元)

森研究室

• 核磁気共鳴装置 JEOL ECS400
• 単結晶自動X線構造解析装置 MercuryⅡ
• 質量分析装置 JEOL JMS-T200
• スピン磁気共鳴装置 Bruker EMX
• インピーダンス測定装置 ソーラトロン 1260型＋1296型
• インピーダンス測定装置 Agilent 4294A型
• 磁気特性測定装置 MPMS (Quantum Design)
• ３ゾーン管状炉

山下研究室

• 超低温測定システム（1-200mK, 15T）
• VTI測定システム（2-300K, 15T）
• 希釈冷凍機測定システム（0.1-10K, 14T）
• 極低温磁化測定装置（0.05-10K, 15T）

山室研究室

• 断熱型熱量計（5-350K）
• 示差走査熱量計（90-1000K）
• 熱重量分析装置（300-1300K）
• 回転式レオメータ（120-800K、1μHz-150Hz）
• 液体・粉末用Ｘ線回折装置（3-470K、0.01〜17 Å-1　(Cu及びMo管球を使用））
• 誘電率・伝導度測定装置（2-330K、10μHz-10MHz）
• 光学式ディラトメーター（150-800K）

吉信研究室

• HREELSシステム
• 表面赤外分光装置
• 独立駆動４探針表面電気伝導測定装置
• 紫外＆Ｘ線光電子分光、LEED、昇温脱離装置

Lippmaa研究室

• TALIS9700 Ion Scattering Spectrometer
• Atomic force microscope
• Profilometer

量子物質ナノ構造ラボ

• 超微細構造作製装置　
• マスクレス加工機　
• 薄膜作製装置　
• 原子層堆積装置　

軌道放射物性研究施設

• スピン角度分解光電子分光装置(レーザー)近藤研

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