最近になり、シリセン・ゲルマネン・遷移金属ダイカルコゲナイド・フォスフォレンなど多彩な二 次元原子層物質が実験的に合成されて着目されている。本講演では、これらの新奇原子層物質のレ ビューと今後の展望を解説する。特に、シリコン版のグラフェンであるシリセンやゲルマニウムで できたゲルマネンなどは基底状態が量子スピンホール効果を示すと期待されているトポロジカル物 質である。また、錫のハニカム構造であるスタネンは室温で量子スピンホール効果を示すと予言さ れている。これらの物質は一般的なハニカム系のトポロジカル絶縁体として議論が可能であり、全 ての可能なトポロジカル絶縁体を分類可能である。これらの物質を用いた電界誘起トポロジカル・ トランジスターなどの応用や、トポロジカル・スピン・バレートロニクスなどに関しても紹介を行 いたい。